Centrum fototechnologii

RAPID MASK

W ramach pierwszej grupy można wyróżnić folie typu RAPID MASK. Folia ta występuje w dwóch grubościach 50 mikronów (HD) i 100 mikronów (HT). Rapid Mask pozwala na piaskowanie rastrowe na powierzchniach gładkich i wypolerowanych ( takich jak szkło, kamień, metal) w jakości zdjęciowej – do 250 dpi . Rapid Mask pozwala na szybką i efektywną pracę bez konieczności wymywania folii po jej naświetleniu.



Przejdź do folii typu 2